中微公司(688012) 公司2023Q2业绩稳健增长，维持“买入”评级 公司2023年H1实现营业收入25.27亿元，YoY+28.13%；实现归母净利润10.03亿元，YoY+114.4%；扣非净利润5.19亿元，YoY+17.75%，非经常性损益4.84亿元，主要系公司出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06亿元；毛利率45.89%，YoY+0.52pcts。其中2023Q2实现营收13.03亿元，YoY+27.46%，QoQ+6.57%；实现归母净利润7.28亿元，YoY+107.53%，QoQ+164.23%；扣非净利润2.91亿元，YoY+14.46%，QoQ+27.74%。半导体设备国产替代持续推进，公司业绩稳定增长，我们上调公司盈利预测，预计2023/2024/2025年归母净利润为17.07/17.42/22.00亿元（前值为13.84/17.37/21.46亿元），预计2023/2024/2025年EPS为2.76/2.82/3.56元（前值为2.25/2.82/3.48元），当前股价对应PE为47.3/46.3/36.7，维持“买入”评级。 新产品加速验证导入，平台化布局开拓成长空间 分业务看，刻蚀设备2023H1营收实现17.22亿元，YoY+32.53%，毛利率46.16%；其中，公司CCP刻蚀设备在国际最先进5纳米芯片生产线实现批量销售，2023H1累计生产交付超过2500个CPP刻蚀反应台。在针对28纳米及以下逻辑领域，公司CPP刻蚀机PrimoSD-RIE已进入客户验证节点。存储领域，公司自主研发超高深比刻蚀机已在客户端验证出具有≥60：1深宽比结构能力。ICP刻蚀方面，公司推出NanovaVEHP和NanovaLUX新产品，在先进逻辑、先进DRAM和3DNAND中工艺覆盖率达到50-70%。MOCVD设备2023H1营收2.99亿元，YoY+24.11%，毛利率37.9%，在新一代Mini-LED生产线上继续保持绝对领先地位，且公司启动碳化硅功率器件外延生产设备的开发，计划2023年内交付样机至客户端开展生产验证。薄膜沉积设备方面，公司新型号CVD钨和ALD钨设备已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。 风险提示：行业需求下降风险；行业竞争加剧风险；技术研发不及预期。

     中微公司(688012) 事件 8月24日，公司公告2023年半年度报告，23H1实现营收25.27亿元，同比+28.13%；归母净利润10.03亿元，同比+114.40%；扣非归母净利润5.19亿元，同比+17.75%。 投资要点 刻蚀+MOCVD持续推进，营收稳步增长。公司23H1实现营收25.27亿元，同比+28.13%，其中刻蚀设备/MOCVD设备/备品备件及服务分别实现营收17.22/2.99/5.05亿元，同比增长32.53%/24.11%/17.13%。刻蚀设备：关键客户市占不断提高，在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司的CCP刻蚀设备实现了多次批量销售，已有超过200台反应台在生产线合格运转，ICP刻蚀设备不断地核准更多刻蚀应用，迅速扩大市场并不断收到领先客户的批量订单。MOCVD：在新一代Mini-LED生产线中，在蓝绿光LED生产线上继续保持绝对领先的地位。 出售拓荆科技股票增厚归母净利润，盈利能力不断增强。23H1公司实现归母净利润10.03亿元，同比+114.40%，扣非归母净利润5.19亿元，同比+17.75%，主要是本期收入和毛利增长下扣非后净利润同比增加，以及公司于23H1出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益约4.06亿元（非经常性收益）。23H1公司刻蚀设备/MOCVD设备的毛利率分别为46.16%/37.90%，实现综合销售毛利率45.89%，同比+0.53pct，盈利能力不断增强。 保持高研发属性，薄膜设备等新品进展顺利。在逻辑集成电路制造环节，公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于5纳米及以下器件中若干关键步骤的加工。在3DNAND芯片制造环节，公司的等离子体刻蚀设备已应用于64层和128层的量产，同时公司根据存储器件客户的需求正在开发极高深宽比的刻蚀设备和工艺；公司也根据逻辑器件客户的需求，正在开发更先进刻蚀应用的设备。公司拥有多项自主知识产权和核心技术，截至23H1，公司已申请2,359项专利，其中发明专利1,991项；已获授权专利1,425项，其中发明专利1,202项。23H1公司的研发投入为4.60亿元，同比+32.96%，占营业收入比例为18.22%，公司始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入。目前公司薄膜设备进展如下： 1）公司首台CVD钨设备去年底付运关键存储客户端验证评估，目前验证进展顺利，已如期完成多道工艺验证，各项指标符合预期，更多应用正在验证当中。同时公司在和更多逻辑和存储客户对接验证，市场得到持续拓展。 2）在原CVD钨设备的基础上，公司开发了新型号CVD钨和ALD钨设备来实现更高深宽比结构的材料填充，新型号的CVD钨和ALD钨设备是生产高端存储器件的关键设备，已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。 3）公司开发的应用于先进存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也取得重大进展，多项指标达到国际领先水平，关键客户的实验室测试获得了良好结果，预期在23H2发往客户端进行量产验证。 4）在现有的金属CVD和ALD设备产品基础上，公司计划进一步完善先进CVD和ALD设备产品线，以提供先进金属CVD和ALD设备全品类解决方案，进一步增强和逻辑存储客户的伙伴关系，全面拓展先进金属CVD和ALD设备产品市场。 5）公司组建的EPI设备研发团队，通过基础研究和采纳关键客户的技术反馈，已经形成自主知识产权及创新的预处理和外延反应腔的设计方案。目前公司EPI设备正处于工艺调试和客户验证阶段，以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。 投资建议 我们预计公司2023/2024/2025年分别实现收入62.77/82.08/106.55亿元，实现归母净利润分别为18.42/19.06/24.51亿元，当前股价对应2023-2025年PE分别为44倍、42倍、33倍，维持“买入”评级。 风险提示 外部环境不确定性风险；技术迭代风险；全体员工持股的公司治理风险；上游供应链产能紧张风险；下游扩产不及预期风险。

     中微公司(688012) 业绩简评 2023 年 8 月 24 日公司发布半年报， 2023 年上半年营收 25.3 亿元， 同比增长 28%； 实现归母净利润 10 亿元， 同比增长 114%； 实 现扣非净利润 5.2 亿元， 同比增长 18%。单 Q2 营收 13 亿元， 同比增长 27%； 实现归母净利润 7.3 亿元， 同比增长 108%； 实现扣非净利润 2.9 亿元， 同比增长 14.5%。 经营分析 公司上半年刻蚀设备收入 17 亿元， 同比增长 32.5%，关键客户市场占有率不断提高； MOCVD 设备实现收入 3 亿元， 同比增长 24%；备品备件及服务收入 5 亿元， 同比增长 17%。二季度非经常收益较高主要归因于公司于 2023 年上半年出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约 4 亿元。 刻蚀机： 已有的产品已经对 28 纳米以上的绝大部分 CCP 刻蚀应用和 28 纳米及以下的大部分 CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖。 高深宽比设备快速进展， 公司致力于提供超高深宽比掩膜（≥40:1）和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案， 开发了用于超高深宽比掩膜的刻蚀的 ICP 刻蚀机， 和用于超高深宽比介质刻蚀的 CCP 刻蚀机。这两种设备都已经开展现场验证，目前进展顺利。随着新的 ICP 产品不断推出，公司在先进逻辑芯片、先进 DRAM 和3D NAND 的 ICP 验证刻蚀工艺覆盖率有望扩展到 50%-70%不等。 薄膜沉积： 公司首台 CVD 钨设备去年底付运到关键存储客户端验证评估，进一步开发新型号 CVD 钨和 ALD 钨设备已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。 EPI 外延设备正处于工艺调试和客户验证阶段。公司推出了用于氮化镓功率器件生产的 MOCVD 设备 Prismo PD5，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。公司也启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发， 2023 年内交付样机至客户端开展生产验证。 盈利预测、估值与评级 预计公司 2023-25 年营收 61/74/94 亿元，同比增长 29%/22%/27%；归母净利润 17.1/17.5/22.2 亿元，同比增长 46%/2%/27%，对应P/E 为 52/51/40 倍，维持“买入”评级。 风险提示 半导体周期波动，下游晶圆厂扩产不及预期，新产品进展速度不及预期风险

     中微公司(688012) 事件概述： 8 月 24 日， 中微公司发布 2023 年中报。公司 2023 年 H1 实现营收25.27 亿元，同比增长 28.13%；实现归母净利润 10.03 亿元，同比增长 114.40%，实现扣非净利润 5.19 亿元，同比增长 17.75%。 收入利润稳健增长。 得益于半导体设备国产化推进，公司刻蚀设备份额持续提升， 公司 2023 年 Q2 单季度实现营收 13.03 亿元，同比增长 27.46%，环比增长6.57%；实现归母净利润7.28亿元，同比增长107.53%，环比增长164.23%；实现扣非净利润 2.91 亿元，同比增长 14.46%，环比增长 27.74%。非经常性损益方面，公司上半年出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益 4.06 亿元，大幅增厚了公司利润。 2023 年 Q2 公司实现毛利率 45.90%，同环比保持稳定。 分业务来看， 2023 年 H1 公司实现刻蚀设备收入 17.22 亿元，同比增长 32.53%，毛利率 46.16%； MOCVD 设备收入 2.99 亿元，同比增长 24.11%，毛利率达37.90%。 对应 Q2 单季度实现刻蚀设备收入 9.08 亿元，同比增长 55%，实现MOCVD 设备收入 1.32 亿元，同比下降 34%。 持续突破先进制程工艺能力。 作为国内刻蚀设备龙头， 公司持续在先进工艺能力上取得突破。 在逻辑器件制造中，公司 CCP 设备可有效应对大马士革刻蚀工艺要求，在存储器件制造中，公司超高深宽比刻蚀机已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力。 ICP 刻蚀设备方面，公司新产品 Nanova VE HP和 Nanova LUX 推出，拓展了 ICP 设备工艺覆盖能力， 在先进逻辑、先进 DRAM和 3D NAND 中的工艺覆盖率达到 50-70%， 新应用包括 DRAM 中的高深款比的多晶硅掩膜、 12 英寸的 3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺（TSV）均已验证成功。 静待新品放量。 除了刻蚀主业的强劲增长表现，公司亦布局了多款薄膜设备新品， 有望在未来实现放量带来新增量。 1） LPCVD： 公司用于高端存储的钨填充 LPCVD 设备已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试； 2） ALD： 用于高端存储和逻辑器件的氮化钛薄膜 ALD 设备取得重大进展，预期在 2023 年下半年发往客户端进行量产验证； 3） EPI：用先进制程锗硅外延生长工艺的 EPI 设备研发顺利， 正处于工艺调试和客户验证阶段。 投资建议： 我们预计公司 2023-2025 年营收分别为 62.93/81.20/104.82亿元， 由于上半年发生较高的非经常性损益，我们上调 2023-2025 年归母净利润预测至 19.05/19.56/25.33 亿元， 对应现价 PE 分别为 43/42/33 倍， 我们看好公司在半导体设备国产化进程中的领先优势，维持“推荐”评级。 风险提示： 产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。

     中微公司(688012) 事件：公司发布 2023 年半年度业绩预告。 公司预计 2023H1 营业收入约 25.27 亿元，同比增长约 28.13%；归母净利润 9.8-10.3 亿元，同比+109.49-120.18%； 扣非后归母净利润 5.0-5.4 亿元，同比+13.45-22.53%。 其中， 23Q2预计实现营业收入 13.04 亿元，环比+6.61%； 预计实现归母净利润 7.05-7.55 亿元，环比+155.85-174%； 预计实现扣非后归母净利润 2.72-3.12 亿元，环比+19.44-37%。 点评： 预计 23H1 净利润增速亮眼， 看好刻蚀设备市场占有率不断提升，薄膜设备开启第二增长曲线，以及研发及生产项目建设顺利进行下，公司长期增长动能充足。 收入方面， 23H1 增长主要系： 1） 刻蚀设备： 收入增长约32.53%，达 17.22 亿元，公司的刻蚀设备持续获得更多国内外客户的认可，关键客户市场占有率不断提高。 2）MOCVD 设备： 在新一代 Mini-LED 生产线上继续保持绝对领先的地位， MOCVD 设备收入增长约 24.11%，达 2.99亿元。 3） 备品备件及服务： 收入增长约 17.13%，达 5.05 亿元。 利润方面， 23H1 归母净利润增长主要系： 1） 本期收入和毛利增长下扣非后净利润同比增加。 2） 以及公司于 2023 年上半年出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益约 4.06 亿元（非经常性收益）。 23H1 扣非后归母净利润变动主要系：营业收入及毛利的增长，以及研发投入和运营费用增长的影响。 刻蚀技术重要性日渐提升， 5 纳米及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售，产品差异化配置满足客户多维需求。 随着先进芯片制程从 14 纳米向 5 纳米及更先进工艺的方向发展，光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。产量及工艺方面，公司 2022 年共生产付运 475 个 CCP 刻蚀反应腔，同比增长 59.40%。在先进逻辑器件方面，公司的双反应台刻蚀机不断完善设备性能，在国际最先进的 5 纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售，截至 23Q1，已有超过 200 台反应台在生产线合格运转。存储器件应用方面，公司的刻蚀设备不仅在 3D NAND 的生产线被广泛应用，还成功的通过了多个动态存储器的工艺验证，并取得了重复订单。2022 年度公司 ICP 技术设备产品类中的 8 英寸和 12 英寸深硅刻蚀设备 Primo TSV200E、 Primo TSV300E在晶圆级先进封装、 2.5 维封装和微机电系统芯片生产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单的同时，在 300mm 的 3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并在欧洲客户 300mm 微机电系统芯片的生产线上获得认证机台的机会，这些新工艺的验证为公司 Primo TSV300E刻蚀设备开拓了新的市场机会。 薄膜设备第二增长曲线扬帆起航， CVD 钨设备、 ALD 氮化钛设备面向高端存储/逻辑领域开发验证进展顺利，Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先。 截止 2022 年末，公司累计 MOCVD 产品出货量超过 500 腔，持续保持国际氮化镓基 MOCVD 设备市场领先地位。其中 1）在 Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先，Prismo UniMax 产品累计出货量已超过 120 腔。 2） 2022 年推出了用于氮化镓功率器件生产的 MOCVD 设备 PrismoPD5，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。 3） 启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发， 2023 年将交付样机至客户端开展生产验证。 4）针对 Micro-LED 应用的专用 MOCVD 设备正开发中。5） 2022 年公司首台 CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，应用于金属互联的 CVD 钨制程设备各项性能已能够满足客户工艺验证的需求。 6）公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的 ALD 氮化钛设备也在稳步推进，已经进入实验室测试阶段。7）23年 5月，公司推出自主研发的 12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备 Preforma UniflexCW， 该设备仅用时不到半年时间顺利导入客户端进行生产线核准，创造了公司开发设备产品的最快纪录。 南昌生产研发基地建成， 产业化建设项目进行顺利，为长期发展奠定基础。 公司在南昌的约 14 万平方米的生产和研发基地于 23 年 7 月正式建成并投入使用， 部分生产洁净室于 2022 年 7 月投入试生产；公司在上海临港的约 18万平方米的生产和研发基地主体建设已完成， 2023 年将部分投入使用；上海临港滴水湖畔约 10 万平方米的研发中心暨总部大楼也在顺利建设。两年内，公司预期会有比现在十五倍大的厂房陆续建成，为今后的大发展夯实基础。 股权激励彰显信心，为公司持续健康发展提供机制保障。 公司于今年 6 月 12 日向 2023 年限制性股票激励计划激励对象授予限制性股票，激励对象人数 1361 人，授予数量 550 万股，约占目前公司股本总额 61819.8523 万股的0.89%。授予价格为人民币 50 元/股，股票来源为公司向激励对象定向发行公司 A 股普通股股票。 投资建议： 预计公司业绩持续高增，大硅片规模效应持续放量， 我们预测 2023/2024/2025 年公司归母净利润14.44/17.5/24.44 亿元，维持“买入”评级。 风险提示： 新应用及新产品拓展不及预期，竞争环境恶化风险， 供应商扩产不及预期，以上预告数据仅为初步核算数据，具体准确的财务数据以公司正式披露的 2023 年半年报为准

     中微公司(688012) 业绩简评 2023年7月14日公司发布半年报预告，预计2023年上半年营收25.3亿元，同比增长28%；实现归母净利润9.8-10.3亿元，同比增长109-120%；实现扣非净利润5-5.4亿元，同比增长13-23%。单Q2营收13亿元，同比增长27%；实现归母净利润7-7.6亿元，同比增长100-117%；实现扣非净利润2.7-3.1亿元，同比增长6-22%。 经营分析 公司上半年刻蚀设备收入17亿元，同比增长32.5%，关键客户市场占有率不断提高；MOCVD设备实现收入3亿元，同比增长24%；备品备件及服务收入5亿元，同比增长17%。二季度非经常收益较高主要归因于公司于2023年上半年出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约4亿元。 公司新品开发取得快速进展。1）刻蚀机：公司在现有产品的基础上，针对逻辑器件的一体化大马士革刻蚀和存储器件的极高深宽比刻蚀技术取得良好进展，60:1极高深宽比刻蚀已经有样机，大马士革刻蚀下游产线验证中；2）薄膜沉积：公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估，进一步开发新型号CVD钨和ALD钨设备来实现更高深宽比结构的材料填充，目前已开始实验室测试同时和关键客户开始对接验证。EPI外延设备已进入样机的设计，制造和调试阶段。3）公司推出了用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PrismoPD5，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。 股权激励绑定核心人才，彰显长期发展信心。6月12日，公司以人民币50元/股的授予价格，向1361名激励对象授予550万股限制性股票，约占目前公司股本总额的0.89%。 盈利预测、估值与评级 预计公司2023-25年营收61/79/96亿元，同比增长29%/29%/21%；归母净利润17.1/18.4/22.4亿元，同比增长46%/7%/22%，对应P/E为52/48/40倍，维持“买入”评级。 风险提示 半导体周期波动，下游晶圆厂扩产不及预期，新产品进展速度不及预期风险。

     中微公司(688012) 事件 7月14日，公司公告2023年半年度业绩预告的自愿性披露公告，预计23H1实现营收约25.27亿元，同比增长约28.13%；归母净利润9.8-10.3亿元，同比增长109.49%-120.18%；扣非归母净利润5.0-5.4亿元，同比增长13.45%-22.53%。 投资要点 关键客户市占不断提升，营收稳步增长。公司预计23H1实现营收约25.27亿元，同比增长约28.13%，其中刻蚀设备/MOCVD设备/备品备件及服务分别实现营收17.22/2.99/5.05亿元，增长约32.53%/24.11%/17.13%，公司刻蚀设备的关键客户市占不断提高，MOCVD在新一代Mini-LED生产线上继续保持绝对领先地位。 出售拓荆科技股票增厚归母净利润，扣非仍保持稳步增长。公司预计23H1的净利润为9.8-10.3亿元，同比增长109.49%-120.18%，主要是本期收入和毛利增长下扣非后净利润同比增加，以及公司于23H1出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益约4.06亿元（非经常性收益）。公司预计23H1的扣非归母净利润5.0-5.4亿元，同比增长13.45%-22.53%，主要是营业收入及毛利的增长，以及研发投入和运营费用增长的影响。 投资建议 我们预计公司2023/2024/2025年分别实现收入62.77/82.08/106.55亿元，实现归母净利润分别为18.42/18.97/24.44亿元，当前股价对应2023-2025年PE分别为48倍、47倍、37倍，给予“买入”评级。 风险提示 外部环境不确定性风险；技术迭代风险；全体员工持股的公司治理风险；上游供应链产能紧张风险；下游扩产不及预期风险。

     中微公司(688012) 事件： 公司发布2023年半年度业绩预告，公司预计2023H1实现营业收入25.27亿元，同比增长28.13%；预计实现归属于母公司所有者净利润9.80亿元~10.30亿元，同比增长109.49%~120.18%；预计实现扣非归母净利润5.00亿元~5.40亿元，同比增长13.45%~22.53%。刻蚀设备市占率持续提高，营收延续高增长 公司预计2023H1业绩较上年同期大幅增长，主要系公司大力拓展国内外客户，产品市占率不断提高。分产品来看，刻蚀设备收入17.22亿元，同比增长约32.53%；MOCVD设备收入2.99亿元，同比增长约24.11%；备品备件及服务收入5.05亿元，同比增长约17.13%。预计归母净利润大幅增长，主要系①公司营收与毛利大幅增长；②公司2023年上半年出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生非经常性收益约4.06亿元。从Q2单季度来看，公司预计2023Q2实现营收13.04亿元，同比增长27.47%，环比增长6.62%；预计实现归母净利润7.05亿元~7.55亿元，同比增长100.85%~115.10%，环比增长156.36%~174.55%。二季度业绩环比大幅增长。 产品研发进展顺利，多业务板块市占率不断提高： （1）刻蚀设备：公司主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机外最关键、工艺难度最高的半导体前道加工设备，公司的刻蚀设备持续获得更多国内外客户的认可，关键客户市场占有率不断提高。公司目标未来在国内先进存储线上CCP市占率提升至85%，ICP提升至65%。 （2）MOCVD设备：公司用于制造深紫外光LED的高温MOCVD设备、用于MiniLED生产的MOCVD设备已开始规模生产，MOCVD设备在新一代Mini-LED生产线上继续保持绝对领先的地位。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场，未来市场空间非常广阔。（3）薄膜沉积设备：公司LPCVD目前已经在客户端验证，同时EPI研发进展顺利。 投资建议： 我们预计公司2023年-2025年的收入分别为62.87亿元、82.13亿元、106.17亿元，归母净利润分别为15.55亿元、19.81亿元、25.93亿元，维持“买入-A”。综合考虑半导体市场景气度及公司核心产品与技术的研发进度，结合wind行业一致预期，给予公司23年66.6XPE，对应目标价167.85元。 风险提示：下游需求衰减风险，市场竞争加剧风险，国产替代不及预期。

     中微公司(688012) 投资要点 事件概述： 公司发布23Q1季报，单季收入12.23亿元，YoY+29%：归母净利为2.75亿元，YoY+135%——主要系22Q1公司有较大的负投资收益、基数较低；扣非净利在2.28亿元，YoY+22%。23Q1主要非经项目为政府补助0.37亿元。 2301毛利率为45.87%，YoY+0.4pcts；扣非净利率为18.64%，YoY-0.96pcts——主要系22Q1公司利息收入较多。 刻蚀设备市占率不断提高，MOCVD快速放量 23Q1公司刻蚀设备市占率不断提升，单季收入为8.14亿元，YoY+14%，营收比重因MOCVD高增从22Q1的75%降至67%。公司MOCVD设备领先优势持续巩固，单季实现收入1.67亿元，YoY+300%，营收占比从2201的4%提升至14%。 CCP和ICP工艺齐升级，先进逻辑&3DNAND空间进一步打开 1）CCP：已进入2D和3D存储产线。大马士革（28nm及以下逻辑）和高深宽比（存储）工艺攻关，取得良好进展。中微2021年进行60:1高深比设备研发，有望在未来存储护产中发挥至关重要作用。2）ICP：工艺覆盖超100个环节，在先进封装、2.5D封装和MCU领域获得批量重复订单。2022年公司在单台机NanovSE的基础上，推出高深宽比结构刻蚀的NanovaVE和高均匀性刻蚀的NanovaUE两种ICP设备，丰富了ICP产品种类。 内升+外延打造高端装备平台企业 1）内升：公司开发的鸽CVD具备优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件、64/128层3DNAND中多个关键应用，正在开发的ALD鸽设备，已和关键客户开始对接验证,用于高端存储和逻辑器件的ALD氨化钛设备也在稳步推进，进入实验室测试阶段。此外，公司正筹划更先进制程的薄膜设备。2）外延：2022年公司对容励增资1.08亿元，并0.43亿元受让睿励老股东股权。睿励12寸量测已进入至28nm及以上制程产线，14nm验证中,并支持64层3DNAND生产、96层工艺验证中。 投资建议 我们维持公司2023/24/25年归母净利预测为14/18/22亿元不变，对应PE为81/62/50倍,考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD设备领军企业之一，技术实力国内领先，维持“买入”评级。 风险提示 行业景气不及预期，研发进展不及预期，客户处产品验证不及预期。