| 序号 | 研究机构 | 分析师 | 投资评级 | 报告标题 | 更新日 |
| | | 上期评级 | 评级变动 | | |
| 1 | 东海证券 | 方霁 | 维持 | 增持 | 公司简评报告:营收高速增长,多产品线加速起量 | 2026-09-03 |
华海清科(688120)
投资要点
事件概述:根据公司发布2026半年度业绩报告,2026上半年公司营业总收入为26.43亿元(yoy+35.58%),归母净利润为5.63亿元(yoy+11.44%),销售毛利率为42.99%(yoy-3.09pct)。公司2026Q2营业总收入为14.42亿元(yoy+39.02%,qoq+20.01%),归母净利润为3.16亿元(yoy+16.14%,qoq+27.74%),销售毛利率为43.56%(yoy-2.26pct,qoq+1.25pct)。
利润端阶段性承压,期间费用改善。公司2026H1销售毛利率yoy-3.09pct,净利率yoy-4.62pct,主要系部分产品处于市场开拓阶段,叠加人工成本、折旧增加及新产品推广带来的成本压力。环比来看,Q2毛利率回升1.25个百分点,净利率回升1.33个百分点,呈边际改善态势。后续随营收规模提升、产品结构优化,毛利率有望进一步修复。此外,公司2026H1期间费用率为20.94%(yoy-3.04pct),规模效应持续显现。伴随高端先进制程、离子注入等业务不断放量,盈利能力有望持续修复。
公司围绕CMP、减薄、离子注入等半导体装备持续完善产品矩阵。CMP设备已在先进逻辑、先进存储、先进封装等领域批量落地,截至2026年中期末累计出机突破1,000台,Universal-S300/300FS/H300等多款型号获客户批量订单,市场渗透率与占有率稳步提升。减薄领域,多款新设备完成首台出机,其中12英寸晶圆减薄装备Versatile-GH300面向先进存储性能达行业领先水平,化合物晶圆减薄装备Versatile-GN200实现公司在化合物半导体超精密加工领域的重要突破。划切及边缘抛光装备客户导入亦取得积极进展,有效解决减薄时的边缘崩边及高精度边缘处理需求。离子注入设备方面,公司已实现12英寸大束流离子注入机各型号全覆盖,并加速推出高能系列,iPUMA-LE成功交付国内先进存储龙头,首台12英寸低温离子注入机iPUMA-LT顺利推进客户端验证。随着多款离子注入装备完成客户验收并投入量产,公司持续斩获批量及重复订单,规模化导入节奏加快。
投资建议:公司围绕CMP、减薄、离子注入等核心装备持续完善平台化布局,CMP龙头地位稳固叠加多业务进入放量期。我们预计公司2026、2027、2028年营业收入分别为61.51、78.18、96.29亿元,同比增速分别为32.33%、27.10%、23.16%;归母净利润分别为14.15、18.48、23.81亿元,同比增速分别为30.57%、30.63%、28.82%,对应当前市值的PE分别为87.82、67.22、52.19倍,维持“增持”评级。
风险提示:1)下游扩产不及预期风险;2)产品验证周期不及预期风险;3)行业竞争加剧风险。 |
| 2 | 东海证券 | 方霁,董经纬 | 首次 | 增持 | 公司深度报告:先进CMP设备放量突破,平台化战略引领协同发展 | 2026-05-08 |
华海清科(688120)
投资要点:
公司是国内极少数实现12英寸CMP设备规模化量产的企业,打破海外巨头长期垄断,稳居国内CMP设备市场龙头地位。公司在CMP装备领域竞争优势持续巩固,离子注入、磨划装备验证进展顺利,平台化战略稳步推进,叠加半导体市场需求旺盛,市场开拓成效显著,有力驱动营收规模快速扩张,2025年收入增长36.46%。据SEMI数据推算,2024年全球CMP市场规模约30.2亿美元,预计2027年将突破40亿美元,2022-2027年CAGR约7.71%2025年公司半导体装备收入40.54亿元,同比增长33.46%,其中CMP设备系列全面覆盖6-12英寸晶圆尺寸,可满足集成电路、先进封装、第三代半导体等多元化应用需求,凭借丰富的产品系列,公司已深度导入中芯国际、长江存储、华虹半导体等国内头部晶圆厂。随着国内扩产提速,公司占据国产CMP装备销售90%以上份额,同时先进制程CMP装备验证进展顺利,订单占比显著提升,成为半导体制造核心环节国产替代的关键力量。
公司积极延伸布局设备维保、耗材供应、晶圆再生等全链条服务类业务,形成“装备+服务”协同发展格局,构建可持续的盈利增长体系。CMP设备在运行过程中会产生大量耗材与零部件消耗,抛光头、保持环、气膜、清洗刷、钻石碟等关键耗材需定期维保更新。随着公司CMP设备销售数量增加,存量产线持续运行,耗材及抛光头维保服务等业务量同步提升。晶圆再生方面,公司依托自有的CMP技术与自产关键设备,天津基地已实现满产,产能达20万片/月;昆山基地扩产有序推进,规划总产能40万片/月,首期20万片/月。服务类业务与设备销售绑定,协同效应持续凸显,一方面,依托现有设备客户资源,降低市场开拓成本,实现客户价值深度挖掘;另一方面,服务类业务具备高毛利、高粘性特征,通过长期服务沉淀客户信任,进一步反哺设备销售,未来有望成为公司新的增长点。
随着国内集成电路行业技术迭代持续驱动设备投资需求,叠加半导体设备国产替代进程加速,公司平台化拓展减薄、离子注入、划切、边抛、湿法等产品矩阵,为业绩增长持续注入动能。减薄装备领域,公司依托CMP技术积淀,推出12英寸超精密晶圆减薄机、减薄贴膜一体机等系列产品,在厚度控制、极限减薄等关键指标上达国际先进水平,广泛应用于先进封装、存储、CIS等领域,订单与交付量持续增长。离子注入设备方面,2024年全球市场规模达276亿元,海外厂商应用材料、亚舍立合计市占率超八成,长期垄断市场。公司通过收购芯嵛公司切入离子注入领域,实现12英寸大束流系列型号全覆盖,中束流系列取得阶段性进展,同时积极布局高能系列,提供全面覆盖逻辑、存储、功率半导体等领域的解决方案,满足不同工艺节点与器件类型的多元需求。湿法设备方面,根据QYResearch全球清洗设备市场规模预计从2026年的330.28亿元增至2032年的471.10亿元,CAGR为6.1%,市场高度集中,在单片清洗设备领域DNS、TEL、LAM及SEMES合计份额近90%。公司基于CMP清洗单元的技术延伸,推出覆盖大硅片、化合物半导体等多场景的清洗设备,自主研发的供液系统亦实现批量应用。
投资建议:首次覆盖,给予“增持”评级。公司深耕半导体设备领域,受益于国产替代与扩产趋势,以CMP设备为核心,平台化拓展减薄、划切、离子注入、清洗等设备产品矩阵,构建“装备+服务”协同发展格局,持续打开业绩成长空间。我们预计公司2026-2028年营业收入分别为61.51、78.18、96.29亿元,同比增速分别为32.33%、27.10%、23.16%;归母净利润分别为14.15、18.45、23.78亿元,同比增速分别为30.57%、30.40%、28.86%对应当前市值的PE分别为50、38、30倍,首次覆盖,给予“增持”评级。
风险提示:产品研发及验证进度不及预期风险;地缘政治风险;下游需求不及预期的风险。 |
| 3 | 东吴证券 | 周尔双,李文意 | 维持 | 买入 | CMP设备龙头业绩稳步增长,设备+服务打开未来成长空间 | 2026-05-04 |
华海清科(688120)
投资要点
业绩持续增长,平台化产品陆续放量:2025年公司营收46.48亿元,同比+36.46%,主要系公司CMP装备的市场占有率和销售规模持续提高,减薄装备、离子注入装备、湿法装备、晶圆再生、关键耗材和维保服务等业务发展势头良好,平台化优势愈发凸显。期间归母净利润为10.84亿元,同比+5.9%,扣非归母净利润为9.65亿元,同比+12.7%,业绩持续增长。2026Q1单季营收12.01亿元,同比+31.7%,环比-17.4%。归母净利润为2.47亿元,同比+5.9%,环比-15.4%,扣非归母净利润为2.2亿元,同比+6.0%,环比-7.0%。
2026Q1盈利能力略有下降,持续维持高研发投入:2025年公司毛利率为41.81%,同比-1.39pct;销售净利率为23.3%,同比-6.74pct;期间费用率为22.1%,同比+2.4pct,其中销售费用率为4.0%,同比+0.4pct,管理费用率为6.7%,同比+1.1pct,系公司职工薪酬、办公费及折旧摊销增长,研发费用率11.6%,同比+0.3pct,财务费用率-0.2%,同比+0.5pct。期间公司持续加大研发投入,2025年研发投入为5.37亿元,同比+40.63%。Q1单季毛利率为42.3%,同环比-4.1pct/+5.5pct;销售净利率为20.6%,同环比-5.0pct/+0.5pct。
合同负债和存货大幅增长:截至2026Q1,公司合同负债18.33亿元,同比+11.7%;存货42.3亿元,同比+21.3%。2025年公司实现经营活动现金流净额8.0亿元,同比-30.73%,主要系公司采购付款及职工薪酬增加。
CMP基本盘稳固,离子注入、先进封装、湿法设备打开成长空间:(1)CMP装备:产品持续迭代,新品Universal-300FS获批量订单;推出P510新品布局先进封装、玻璃基板等应用。(2)减薄/抛光装备:截至2025年末,12英寸减薄机Versatile-GP300,累计出机量达20台;12英寸晶圆减薄贴膜一体机Versatile-GM300已完成批量供应和首台验收;面向先进存储的12英寸亚微米级晶圆减薄装备Versatile-GH300首台装备正式出机;目前公司减薄装备已覆盖国内多数头部企业,在3D IC、HBM领域有先发优势,未来将开发更高WPH、更低TTV的全新机型,提高市场竞争力;边缘抛光核心机型已进入多家头部企业进行工艺验证。(3)划切装备:核心机型已进入工艺验证,获部分客户认可,覆盖存储芯片、CIS及先进封装等核心领域。(4)离子注入装备:12英寸低温离子注入机iPUMA-LT已向国内头部客户出货,覆盖大束流多个型号;12英寸大束流离子注入机已批量交付。(5)湿法设备:多台清洗设备通过验证并确收,SDS/CDS供液系统获批量采购。(6)晶圆再生服务:依托CMP与清洗设备能力,公司成为晶圆再生领域专业代工厂,获得多家大生产线批量订单并长期稳定供货。天津20万片月产能外,昆山扩产40万片,完成南北客户全面覆盖。
盈利预测与投资评级:考虑到订单确收节奏,我们下调公司2026-2027归母净利润为14.3/19.1(原值15.1/19.3)亿元,预计公司2028年归母净利润为24.4亿元,当前市值对应动态PE分别为48/36/28倍,考虑到公司业务成长性,维持“买入”评级。
风险提示:下游需求不及预期,新品研发&下游扩产不及预期等。 |
| 4 | 中邮证券 | 吴文吉,翟一梦 | 维持 | 买入 | 受益存储扩产,3D IC全布局 | 2026-01-06 |
华海清科(688120)
投资要点
CMP先进制程迭代升级。公司持续迭代升级CMP装备,一方面推出适配碳化硅等多种材质工艺及更先进制程的产品,另一方面针对性开发满足HBM等先进封装新需求的机型。公司面向行业前沿研发的全新12英寸CMP装备Universal-S300,已成功交付国内集成电路制造龙头企业并获重复订单。该装备采用创新叠层布局架构,显著提升空间利用率与产能,配合高效传输与清洗系统,实现了工艺稳定性与生产效率的业界领先水平,能够有力支撑先进制程及先进封装等领域的严苛需求,标志着国产高端CMP装备在先进半导体制造关键环节取得重要突破。公司12英寸CMP装备Universal-300FS已成功交付国内逻辑芯片龙头企业,并进入其先进制程工艺产线验证。该装备凭借卓越的清洗能力,以及高效、稳定的综合性能,有效支撑客户端的高良率产线需求,快速赢得客户信任与市场肯定,目前正式步入规模化量产阶段。
减薄、划切等配套3D IC全流程解决方案。公司持续加大新产品研发投入,积极开发更高WPH、更高TTV的减薄机型,逐步加大对划切装备、边抛装备、湿法装备的研发资源投入。公司12英寸减薄贴膜一体机Versatile–GM300、12英寸晶圆边缘修整装备Versatile-DT300先后实现批量发货,与公司CMP系列装备形成针对3D IC的切、磨、抛等成套解决方案,更好满足AI芯片、HBM(高带宽存储器)堆叠封装、Chiplet(芯粒)异构集成等前沿技术领域的迫切需求。公司12英寸减薄抛光一体机Versatile-GP300累计出机量突破20台。该装备卓越的技术性能与稳定的量产能力获得了市场的高度认可,标志着国产高端半导体装备在3DIC、先进封装等关键工艺领域实现了从技术突破到规模化应用的重要跨越,为产业发展注入了强劲动力。
离子注入装备多品类推进。离子注入机作为半导体制造核心装备,其中大束流类型的份额占比最高,基于对市场需求的精准判断,公司将大束流离子注入机作为核心突破点,持续加大研发投入。公司自主研发的首台12英寸低温离子注入机iPUMA-LT已发往国内逻辑芯片制造领域龙头企业,成功实现面向芯片制造的大束流离子注入机各型号的全覆盖;最新一代大束流离子注入机在置换率等方面已与国际领先竞争对手达到同一水平,具备高稳定性与高工艺匹配度,能够满足先进制程对离子注入均匀性、精准度的严苛要求。同时公司正积极布局高能、碳化硅等多品类离子注入装备,以满足逻辑芯片、存储芯片、功率半导体、CIS(图像传感器)以及硅片制造等应用领域对高质量、大规模制造的严苛需求,争取更多订单和市场份额。
投资建议
我们预计公司2025/2026/2027年分别实现收入46/59/74亿元,归母净利润12/16/21亿元,维持“买入”评级。
风险提示
技术创新风险,核心技术人员流失或不足的风险,核心技术失密风险,客户相对集中的风险,新产品和新服务的市场开拓不及预期的风险,应收账款回收的风险,下游半导体厂商资本性支出及终端消费市场需求波动风险,宏观环境风险,政府补助与税收优惠政策变动的风险,知识产权争议风险,募集资金投资项目风险,产业政策变化的风险。 |