中微公司(688012) 事件： 公司发布2023年年度业绩预告，预计全年营收62.6亿元，同比+32.1%；扣非归母利润11-12.4亿元，同比+19.64%-34.86%；归母利润17-18.5亿元，同比+45.32%-58.15%。 全年新签订单83.6亿，其中刻蚀设备同比60%增速显著。 公司预计2023年全年营业收入62.6亿元，同比+32.1%，2012-2023年超十年间公司平均年营收增长率超35%，实现持续稳定高增长；订单角度，2023年公司全年新签订单83.6亿元，相较2022年63.2亿元的新签订单同比+32.3%，保障2024年业绩继续高增长。 刻蚀设备：受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势，2023年公司CCP和ICP刻蚀设备均在国内主要客户芯片生产线上市占率大幅提升；公司的TSV硅通孔刻蚀设备也越来越多地应用在先进封装和MEMS器件生产；预计2023年全年营收47亿元，同比+49.4%，新增订单69.5亿元，同比+60.1%。 MOCVD设备：受LED终端市场波动影响，预计2023年全年营收4.6亿元，同比-34%，新增订单2.6亿元，同比-72.2%。 全年中位扣非净利率18.7%，盈利能力持续保持高水平。 公司预计2023年全年实现扣非归母利润11-12.4亿元，同比+19.64%-34.86%，对应中位扣非净利率18.7%，相较于2022年的19.4%略有下滑但仍保持较高水平；费用方面，目前公司已实行2020、2022、2023年三期股权激励，合计对2022-2024年分别产生费用摊销约2.0/3.0/2.8亿元；预计2023年全年归母利润17-18.5亿元，同比+45.32%-58.15%，其中，2023年上半年减持拓荆科技股份产生税后净收益约4.06亿元。 向平台化转型，持续看好新设备突破打开成长天花板。 公司目前已从深耕刻蚀逐渐向平台化企业转型，稳步推进新产品开发与产业化，进展喜人：1）近两年新开发的LPCVD和ALD设备，目前已有四款设备产品进入市场，其中三款设备已获得客户认证，并开始得到重复性订单；2）公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品，也将在近期投入市场验证；3）公司开发的包括碳化硅功率器件、氮化镓功率器件、Micro-LED等器件所需的多类MOCVD设备也取得了良好进展，2024年将会陆续进入市场。展望后续，我们看好公司在新产品上的布局与突破，打开成长天花板。 投资建议： 我们预计公司2023-2025年收入分别为62.61/82.15/105.48亿元，同比增长32.1%/31.2%/28.4%；归母净利润为17.74/20.30/25.53亿元，同比增长51.6%/14.4%/25.7%，对应市盈率47.0/41.1/32.7倍。 考虑2024年内资晶圆厂资本支出继续向好，考虑公司在关键刻蚀设备领域的国产突破优势，我们给予公司2024年60xPE，对应目标价196.69元，维持“买入-A”。 风险提示： 下游晶圆厂扩产不及预期，新产品导入放量不及预期，中美博弈影响供应链，市场竞争加剧。

     中微公司(688012) 结论与建议： 得益于本土半导体设备市场国产替代的推进，公司 2023 年营收增长超过3 成，核心刻蚀设备增长近 5 成，净利润增长 45%-58%， 同时公司 2023 年新签订单 84 亿元，同比增长超过 3 成，整体业绩表现靓丽。 展望未来， 半导体设备本土化的进程持续加快，随着半导体行业景气抬头，国内设备增速需求在 2024 年有望提升。 公司立足于刻蚀设备以及 MOCVD设备市场， 同时布局沉积设备领域，未来有望形成多个业绩增长点。 与此同时，公司南昌、临港、 南昌基地持续扩张产能，为后续业绩增长提供保障。从估值来看，公司 2024 年 PS 约 10 倍， PE 为 36 倍， 维持买进建议。 2023 业绩快速增长： 公司发布公告，预计 2023 年实现营业收入约 62.6亿元，同比增长约 32.1%。 其中， CCP 和 ICP 等离子体刻蚀设备预计 2023年营业收入约 47.0 亿元，同比增长约 49.4%。 预计实现净利润 17 亿元-18.5 亿元， YOY 增长 45%-58%，扣非后净利润 11 亿元-12.4 亿元， YOY增长 19.6%-34.9%。 相应的 4Q23，公司实现营收 22.2 亿元， YOY 增长30.8%，实现净利润 5.4 亿元-6.9 亿元， YOY 增长 43.3%-83.2%，扣非后净利润 3.7 亿元-5.1 亿元， YOY 增长 32.9%-83.8%。 新签订单持续快速增长， 业绩确定性高： 得益于半导体设备产业国产替代的推进， 2023 年公司新增订单金额约 83.6 亿元，同比增长约 32.3%，未来业绩增长确定性高。 其中，新增刻蚀设备订单金额约 69.5 亿元，同比增长约 60.1%，在新签订单中的占比攀升至 83%， 公司在核心刻蚀设备市场的优势进一步扩大。 盈利预测： 预计公司 2023-25 年实现净利润 17.5 亿元、 22.9 亿元和 28.1亿元， YOY 分别增长 49%、 31%和 23%， EPS 分别为 2.83 元、 3.71 元和3.86 元， 目前股价对应 2023-25 年 PE 分别为 48 倍、 36 倍和 30 倍， 2024年 PS 预计约 10 倍，给与买进的评级。 风险提示： 中美科技脱钩影响半导体设备需求增长。

     中微公司(688012) 投资要点 事件概述： 公司发布23Q3季报：Q3收入15.15亿元，YoY+41%、QoQ+16%；归母净利1.57亿元，YoY-52%、QoQ-78%；毛利率45.74%，YoY-0.04pcts、QoQ-0.16pcts。 利润下滑系期间费用增加、投资收益减少 Q3利润环比下滑程度较大，主要系：1）期间费用增加1.2亿元；2）财务费用的正收益减少3400万元（23Q2有较多利息收入）；3）投资净收益减少3.5亿元（23Q2出售部分拓荆股权取得的收益）；4）公允价值变动净收益减少2.2亿元（公司持有的上市公司股权价格波动所致）。 刻蚀业务高增，产品结构升级 刻蚀业务增速快于整体增速：23年前三季度营业收入同比增长32.80%达40.41亿元，而同期刻蚀设备收入增长43.40%达28.70亿元；单三季度刻蚀收入11.48亿元，经测算同比增长64%、环比增长26%——均显著快于公司整体营收增速。MOCVD受景气低迷拖累：经测算，MOCVD23Q3收入1.1亿元，YoY-25%、QoQ-17%，主要系下游LED行业景气低迷、对设备需求量减少。 高端存储刻蚀已开展验证，CVD钨设备快速突破 1）刻蚀：逻辑领域，公司12寸高端刻蚀设备已在从65纳米到5纳米的各个技术结点大量量产，并着力改进性能以满足5纳米技术以下的若干关键步骤加工的要求；存储领域，公司致力于提供超高深宽比掩膜（≥40:1）和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案，目前这两种设备都已经开展现场验证、进展顺利。2）薄膜沉积：公司短时间实现多种LPCVD设备的研发交付以及ALD设备的重大突破，其中CVD钨设备能满足先进逻辑器件接触孔填充、DRAM器件接触孔应用、3D NAND器件中的多个关键应用需求；ALD钨设备，能够满足3D NAND等三维器件结构中金属钨的填充需求，公司还在开发另一ALD产品系列，能够满足先进逻辑和存储器件中金属阻挡层和金属栅极的应用需求。3）MOCVD：Prismo A7？设备已在全球氮化镓基LED MOCVD市场居领先地位；用于Mini-LED生产的Prismo UniMax？，已在领先客户端大规模量产；用于硅基氮化镓功率器件Prismo PD5？已获得重复订单，用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中，即将开展样机在客户端的测试。 投资建议 结合公司前三季度业绩情况，我们调整公司2023/24/25年归母净利预测为14/18/22亿元（此前预测为16/18/22亿元），对应PE为73.5/56.4/45.8倍。考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD设备领军企业之一，有望助力国产存储高端突破，维持“买入”评级。 风险提示 新产品开发、推向市场不及预期;大客户需求不及预期；来自同行竞争加剧的风险。

     中微公司(688012) 投资要点 事件：公司发布2023年三季报。 23Q3收入持续增长，非经损益亏损影响利润 2023年前三季度公司实现营业收入40.4亿元，同比+32.8%；归母净利润11.6亿元，同比+46.3%，扣非归母净利润7.34亿元，同比+13.9%，毛利率45.8%，同比+0.3pct，净利率28.7%，同比+2.7pct。2023年前三季度刻蚀设备收入为28.70亿元，同比+43.40%，MOCVD设备收入为4.09亿元，同比+5.50%。 2023单三季度公司实现营业收入15.1亿元，同比+41.4%，环比+16.2%；归母净利润1.57亿元，同比-51.8%，环比-78.4%；扣非归母净利润2.1亿元，同比+5.7%，环比-26.2%。截至2023Q3，合同负债13.65亿元，环比-24.3%，存货40.9亿元，环比+7.5%。2023Q3归母净利润同比下降主要原因为二级市场股价波动导致非经常性损益亏损，2023Q3非经常性损益为亏损0.58亿元，较上年同期收益1.22亿元减少1.8亿元。 23Q3毛利率保持稳定，费用率环比增加 2023Q3毛利率45.7%，同比持平，环比-0.2pct；净利率10.3%，同比-20pct，环比-45.5pct。2023Q3费用率环比增加，管理、销售、财务、研发费用率分别为5.5%、9.5%、-0.5%、13.9%，同比+1.0%、0.1%、3.0%、0.0%，环比+0.5%、+2.1%、+2.7%、+1.6%。 中国半导体刻蚀设备龙头，国产化加速、领先客户突破顺利 公司作为国内半导体刻蚀设备的龙头厂商，推动CCP、ICP等刻蚀设备国产化率快速提升。同时，公司在MOCVD、LPCVD等领域也有布局，推动公司向平台化进展。外部管制趋严下，各大晶圆厂国产化及先进制程产线建设对半导体刻蚀薄膜等设备需求提升，公司产品研发、验证、导入、放量节奏有望加快。据公司三季报，公司的刻蚀设备在客户端不断核准更多刻蚀应用，市场占有率不断提高并不断收到领先客户的批量订单。公司在关键先进工艺节点的技术进展不断推进，极高深宽比刻蚀设备、大马士革刻蚀设备、EPI设备研发顺利推进，四季度存储芯片价格回暖，国存储大厂扩产潜力有望为公司带来订单弹性。 盈利预测与估值 预计公司2023-2025年实现营收61.4、79.2、104.5亿元，同比增长29.5%、29.1%、31.9%，归母净利润14.9、18.7、24.0亿元，同比增长27.2%、25.9%、27.9%，对应PE分别为70、56、43倍，维持“买入”评级。 风险提示 下游需求不及预期；设备国产化不及预期；产品验证不及预期

     中微公司(688012) 投资要点： 事件：10月26日，中微公司发布2023年三季报。公司2023年前三季度实现营收40.41亿元，同比增长32.80%；实现归母净利润11.60亿元，同比增长46.27%；实现扣非归母净利润7.34亿元，同比增长13.94%。公司单三季度实现营收15.15亿元，同比增长41.40%；实现归母净利润1.57亿元，同比下降51.76%；实现扣非归母净利润2.15亿元，同比增长5.68%。 营收情况：刻蚀设备增长强劲，拉动营收增长。公司刻蚀设备不断收到领先客户批量订单，前三季度营收总计实现40.41亿元，同比增长32.80%，增加值9.98亿元。其中刻蚀设备收入28.70亿元，较去年同期增长43.40%，增加值8.69亿元，贡献率达87.07%，毛利率达46.46%。MOCVD设备收入4.09亿元，较去年同期增长5.50%，毛利率达36.29%。单三季度看，刻蚀设备收入11.48亿元，同比增长63.53%；MOCVD设备收入1.10亿元，同比减少25.17%。 利润情况：受公允价值变动与股权激励影响，公司利润承压。一方面，公司第三季度公允价值变动损失2.14亿元，使得非经常性损益亏损0.58亿元，较上年同期的收益1.22亿元减少1.80亿元，第三季度归母净利润1.57亿元，同比下降51.76%。另一方面，公司于2023年6月进行股权激励授予，预估23年三、四季度共产生1.60亿元费用摊销，费用端有所增加，三季度扣非归母净利润2.15亿元，同比增长5.68%。 刻蚀设备：公司的刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，市场占有率不断提高。在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司的CCP刻蚀设备实现了多次批量销售，已有超过200台反应台在生产线合格运转。公司的ICP刻蚀设备不断地核准更多刻蚀应用，迅速扩大市场并不断收到领先客户的批量订单。大马士革刻蚀工艺，超高深宽比刻蚀机客户端验证结果较好，基本满足客户量产需求。目前，逻辑端客户实际订单情况与目标情况接近，公司在逻辑、存储领域刻蚀设备市占率有望达到50%-70%。 薄膜沉积设备：先进产品技术不断发展，公司薄膜设备客户结构改善，毛利率有望维持健康水平。首台CVD钨设备去年底付运关键存储客户端验证评估，验证进展顺利；用于高端存储和逻辑器件的氮化钛薄膜ALD设备研发顺利 投资建议：我们预计公司2023-2025年归母净利润分别为15.34/18.12/21.20亿元，对应PE分别为68.93/58.37/49.89倍。考虑到公司刻蚀设备在国内的领先地位以及国产替代需要，维持公司“增持”评级。 风险提示：国际摩擦加剧；国产替代进程不及预期；下游需求恢复不及预期

     中微公司(688012) 公司2023Q3营收持续高增长，维持“买入”评级 公司发布2023年三季报，2023年Q1-3实现营业收入40.41亿元，YoY+32.8%；实现归母净利润11.6亿元，YoY+46.27%；扣非净利润7.34亿元，YoY+13.94%，毛利率45.83%，YoY+0.32pcts。其中2023Q3实现营收15.15亿元，YoY+41.4%，QoQ+16.21%；实现归母净利润1.57亿元，YoY-51.76%，QoQ-78.44%，主要系2023Q3非经常性损益-0.58亿元，YoY-1.8亿元，其中公允价值变动损益和投资损益合计亏损1.02亿元，主要由二级市场股价波动所致；扣非净利润2.15亿元，YoY+5.68%，QoQ-26.22%。半导体设备国产化加速突破，看好公司作为国产半导体设备厂商领头羊，多元化产品布局，我们上调公司2024-2025年盈利预测，预计2023/2024/2025年归母净利润为15.49/19.31/26.28亿元（前值为17.07/17.42/22.00亿元），预计2023/2024/2025年EPS为2.51/3.12/4.25元（前值为2.76/2.82/3.56元），当前股价对应PE为67.1/53.8/39.6，维持“买入”评级。 新品研发持续推进，引领国产设备加速替代 分业务看，刻蚀设备2023Q1-3营收实现28.7亿元，YoY+43.4%，毛利率46.46%；其中，2023Q3刻蚀设备收入11.48亿元，YoY+63.53%。在逻辑领域，公司着力改进刻蚀设备性能以满足5纳米技术以下关键步骤要求，目前已获得重复订单并付运。在存储领域，公司致力于提供超高深宽比掩膜（≥40:1）和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案，相应开发的超低频偏压射频ICP刻蚀机以及超低频高功率偏压射的CCP刻蚀机均已开展现场验证，目前进展顺利。MOCVD 设备2023Q1-3营收4.09亿元，YoY+5.5%，毛利率36.29%；其中，2023Q3MOCVD设备收入1.1亿元，YoY-25.02%。公司用于碳化硅功率器件外延生产的设备即将开展样机在客户端的验证测试，下一代氮化镓功率器件MOCVD设备及制造Micro-LED应用的新型MOCVD设备也正在按计划开发中。同时，公司深度布局薄膜沉积业务，已实现多种LPCVD设备研发交付以及ALD设备重大突破。 风险提示：行业需求下降风险；行业竞争加剧风险；技术研发不及预期。

     中微公司(688012) 事件描述 公司公布2023年三季报。前三季度实现营业收入40.4亿元，同比+32.8%；归母净利润11.6亿元，同比+46.3%；扣非归母净利润7.3亿元，同比+13.9%。其中，Q3单季实现营业收入15.1亿元，同比+41.4%；归母净利润1.6亿元，同比-51.8%；扣非归母净利润2.1亿元，同比+5.7%。 事件点评 Q3净利下滑主要受到非经常性损益影响。Q3非经常性损益为亏损0.6亿元，同比减少1.8亿元，主要受到二级市场股价波动影响（主要是山东天岳），公司计入非经常性损益的以公允价值计量的股权投资所产生的公允价值变动损益和投资损益合计为亏损1.0亿元，同比减少约2.0亿元。 刻蚀设备销售稳健增长，新品验证进展顺利。（1）刻蚀设备，前三季度实现收入28.7亿元/yoy+43.4%，毛利率46.5%；Q3实现收入11.5亿元，yoy+63.5%。极高深宽比的刻蚀设备和大马士革工艺的刻蚀设备在客户端验证顺利，后续会配合客户的投产时间表进行供货。（2）MOCVD设备，前三季度实现收入4.1亿元/yoy+5.5%，毛利率36.3%；Q3实现收入1.1亿元，yoy-25.0%。据10月27日交流纪要，传统显示景气度欠佳，公司将继续开发MiniLED，MicroLED，以及功率器件等领域的外延设备，预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场。截止三季末，公司累计已有3819台等离子体刻蚀和化学薄膜的反应台，在国内、亚洲和欧洲的117条生产线，全面实现了量产和大量重复性销售，获得客户认可。 总体订单保持充裕，产能建设顺利进行。公司总体订单充裕，合同负债下滑主要是因为收入确认快速以及信用证和付款节点变化的影响。目前产能建设顺利推进，中微南昌14万平方米的产业化基地已建成完工，并于2023年7月投入使用；中微临港约18万平方米的产业化基地主体建设已完成，上海临港滴水湖畔约10万平方米的总部和研发中心也在顺利建设。 投资建议 预计公司2023-2025年归母净利润分别为14.4\18.2\21.6亿元，同比分别增长23.4%/25.7%/18.9%，对应EPS分别为2.33\2.94\3.49元，对应10月30日收盘价169.98元，PE分别为72.7\57.8\48.6倍。维持“买入-A”的投资评级。 风险提示 行业周期波动的风险，下游扩产不及预期的风险，研发进展不及预期的风险，关键技术人员流失的风险。

     中微公司(688012) 中国的半导体设备领导者 行业趋势长期利好，市场份额有望提升 首次覆盖给予优于大市评级和200元人民币目标价 领先的中国科技公司。中微公司专注于半导体刻蚀和MOCVD设备的制造和销售，应用领域包括集成电路（IC）、LED、先进封装、MEMS、功率器件等。刻蚀设备贡献了最大的收入，2022年贡献率为66%，而MOCVD占总收入的15%。中微拥有全系列的电容耦合（CCP）和电感耦合（ICP）等离子刻蚀设备产品，技术国内领先、国际一流。部分产品已应用于全球领先客户最先进的生产线。 半导体设备市场长期利好，国产化趋势持续。中国是全球最大的半导体设备（SPE）市场；然而，国内企业市场份额有限。据我们估计，2020年之前中国半导体设备自给率仅为13-17%，2021/2022年将增至20%/31%。对于光刻和离子注入等某些领域，国产化率甚至更低。我们预计中国半导体设备市场将在中长期内实现稳健增长，其支撑因素是：(1)半导体资本支出预期长期乐观；(2)工艺制程演进迭代，需要更多的设备投入；(3)存储制程的演进；(4)MOCVD需求，由micro-LED和化合物半导体拉动；(5)国产化趋势。鉴于美国、日本和欧洲更严格的技术出口限制，我们认为半导体国产化仍将是中国的重要目标之一，因此国内企业有望在未来几年获得市场份额。 首次覆盖给予优于大市评级，目标价200.00元人民币。在乐观的行业前景和公司市场分额提升的推动下，我们预计公司2022-2025年收入复合年增长率将达到25%，净利润复合年增长率将实现20%。经过约3年的估值调整，中微目前的估值在61倍的2024年前瞻市盈率，比历史平均水平之下一个标准差更低。基于我们对2024年每股收益的预测和74倍目标前瞻市盈率，我们给予中微公司优于大市评级和人民币200.00元的目标价，接近历史平均水平之下一个标准差。

     中微公司(688012) 事件： 公司发布2023年三季报，2023Q3营收15.1亿元，同比+41.4%；扣非后归母净利润2.15亿元，同比+5.68%；归母净利润1.57亿元，同比-51.76%。 2023Q3刻蚀设备收入继续高增，股份支付费用致利润承压： 2023年1-9月公司实现营收40.4亿元，同比+32.8%；其中，刻蚀设备收入28.7亿元，同比+43.4%，毛利率46.46%，MOCVD设备收入4.09亿元，同比+5.5%，毛利率36.29%。 对应2023Q3单季度看，公司实现营收15.1亿元，同比+41.4%；其中，刻蚀设备收入11.5亿元，同比+64%，毛利率46.9%；MOCVD设备收入1.1亿元，同比-25%，毛利率31.9%；其他备品备件及设备维护收入2.6亿元，环比持平。综合来看，MOCVD设备相对承压，但刻蚀设备受益份额提升及ICP放量继续实现高增长。 利润端，2023年1-9月公司实现扣非后归母净利润7.3亿元，同比+13.9%；对应2023Q3单季度扣非利润2.1亿元，同比+5.7%，扣非净利率14.2%，同比-4.8pcts，环比-8.2pcts，主要系Q3产生股份支付费用1亿元左右。2023年1-9月公司实现归母净利润11.6亿元，同比+46.3%，对应2023Q3单季度归母净利润1.6亿元，同比-51.8%，主要系Q3非经常性损益亏损0.58亿元，主要原因为公司投资的天岳先进等二级市场股价波动导致本期公司计入非经常性损益的以公允价值计量的股权投资所产生的公允价值变动损益和投资损益合计亏损1.02亿元。 向平台化转型，看好新设备突破打开成长天花板: 公司目前已从深耕刻蚀逐渐向平台化企业转型，初步形成“刻蚀全面覆盖+薄膜沉积部分覆盖+量检测投资布局”的业务版图，展望后续，我们看好公司在新产品上持续突破，打开成长天花板： 1）刻蚀：持续推进针对逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术的攻关验证，进一步提升刻蚀工艺覆盖率。 2）沉积：钨沉积方面，首台CVD钨设备已顺利导入客户生产线，正对接更多逻辑/存储客户进行验证，新型号的CVD钨和ALD钨设备首台量产验证机已在客户端进行测试；TiN沉积方面，用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备预计2023H2发往客户端进行量产验证；EPI设备也进入工艺调试和客户验证阶段。 3）量检测：持股睿励仪器，投资布局前道量检测设备。 投资建议： 我们预计公司2023-2025年的收入分别为63.14/75.95/98.96亿元，同比增长33.2%/20.3%/30.3%；归母净利润为16.80/18.47/23.93亿元，同比增长43.6%/9.9%/29.6%，对应市盈率60.9/55.4/42.8倍。 考虑2024年内资晶圆厂资本支出边际上行，且市场预期核心下游扩产招标在即，考虑公司在关键刻蚀设备领域的国产突破优势，我们给予公司2024年70xPE，对应目标价210.1亿元，维持“买入-A”。 风险提示：下游晶圆厂扩产不及预期，新产品导入放量不及预期，中美博弈影响供应链，市场竞争加剧。

     中微公司(688012) 事件： 公司发布2023年第三季度报告。2023年前三季度公司实现营业收入40.41亿元，同比增长32.80%；归母净利润11.60亿元，同比增长46.27%；扣非净利润7.34亿元，同比增长13.94%；基本每股收益1.88元/股。 刻蚀设备竞争力持续提升，前三季度收入实现大幅增长 公司的刻蚀设备在客户端不断核准更多刻蚀应用，市场占有率不断提高并不断收到领先客户的批量订单。公司前三季度刻蚀设备实现营业收入28.70亿元，同比增长约43.40%，毛利率达到46.46%；MOCVD设备实现营业收入4.09亿元，同比增长约5.50%，毛利率为36.39%。单季度来看，23Q3公司实现营业收入15.15亿元，同比增长约41.40%，收入大幅增长原因系刻蚀设备收入实现较快增长，Q3实现收入11.48亿元，同比增长约63.53%。23Q3公司实现归母净利润1.57亿元，同比下降51.76%，主要原因系非经常损益较去年同比减少1.80亿元。 高端设备布局领先，有望受益晶圆厂扩产 公司陆续布局了半导体第二、三、四大设备市场，即刻蚀设备、薄膜设备、光学检测设备，并且在这些高端设备领域已有领先的布局和影响力。至2023年9月底，公司累计已有3819台等离子体刻蚀和化学薄膜的反应台，在国内、亚洲和欧洲的117条生产线，全面实现了量产和大量重复性销售。半导体景气度逐步恢复，国内晶圆厂有望继续资本开支的推进，公司半导体设备有望深度受益国产晶圆厂的扩产。 盈利预测、估值与评级 我们预计公司2023-2025年营业收入分别为61.17/80.98/104.02亿元，同比增速分别为29.06%/32.38%/28.45%；归母净利润分别为17.33/19.88/24.67亿元，同比增速分别为48.15%/14.72%/24.08%，EPS分别为2.80/3.22/3.99元/股，3年CAGR为28.23%。鉴于公司是国内领先的刻蚀设备厂商，参照可比公司估值，我们给予公司2024年60倍PE，目标价192.95元，维持“增持”评级。 风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期；新品研发、验证进度不及预期等。

     中微公司(688012) 业绩简评 2023年10月26日公司发布三季报，2023年前三季度营收40.4亿元，同比增长33%；实现归母净利润11.6亿元，同比增长46%；实现扣非净利润7,3亿元，同比增长14%。 单Q3营收15亿元，同比增长41%；实现归母净利润1.6亿元，同比下滑52%；实现扣非净利润2.2亿元，同比增长6%。 经营分析 公司前三季度刻蚀设备收入28.7亿元，同比增长43.4%，关键客户市场占有率不断提高；MOCVD设备实现收入4亿元，同比增长5%。2023年前三季度非经常性损益较去年同期增加2.77亿元。2023年前三季度，公司计入非经常性损益的因股权投资产生的公允价值变动损益和投资损益合计为亏损0.90亿元，较去年同期盈利的0.98亿元减少约1.88亿元。 刻蚀机：已有的产品已经对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。高深宽比设备快速进展，公司致力于提供超高深宽比掩膜（≥40:1）和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案，开发了用于超高深宽比掩膜的刻蚀的ICP刻蚀机，和用于超高深宽比介质刻蚀的CCP刻蚀机。这两种设备都已经开展现场验证，目前进展顺利。随着新的ICP产品不断推出，公司在先进逻辑芯片、先进DRAM和3DNAND的ICP验证刻蚀工艺覆盖率有望扩展到50%-70%不等。 薄膜沉积：公司首台CVD钨设备去年底付运到关键存储客户端验证评估，进一步开发新型号CVD钨和ALD钨设备已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。EPI外延设备正处于工艺调试和客户验证阶段。公司推出了用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PrismoPD5，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。公司也启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，2023年内交付样机至客户端开展生产验证。 盈利预测、估值与评级 预计公司2023-25年营收60/72/100亿元，同比增长27%/20%/39%；归母净利润17/18/26亿元，同比增长44%/7%/41%，对应P/E为60/56/40倍，维持“买入”评级。 风险提示 半导体周期波动，下游晶圆厂扩产不及预期，新产品进展速度不及预期风险。

     中微公司(688012) 事件概述：10月26日，中微公司发布2023年三季报。公司2023年前三季度实现营收40.41亿元，同比增长32.80%；实现归母净利润11.60亿元，同比增长46.27%，实现扣非净利润7.34亿元，同比增长13.94%。 刻蚀主业表现强劲，公允价值变动及激励费用短期压制业绩。公司作为国内半导体设备龙头，在2023年以来不断拓宽工艺覆盖率，实现收入的稳健高增。23Q3单季度公司实现营收15.15亿元，同比增长41.40%，环比增长16.21%。其中，核心业务刻蚀设备表现强劲，前三季度实现营收28.70亿元，同比增长43.40%，对应23Q3单季度实现刻蚀收入11.48亿元，同比增长63.53%，贡献了公司主要的收入增量。MOCVD业务前三季度实现营收4.09亿元，同比增长5.50%，对应23Q3单季度实现MOCVD业务收入1.10亿元，同比下滑25.17%。 利润端，公司23Q3毛利率45.74%，同环比保持稳定，但归母净利润短期承压，主要来自两方面因素：1）23Q3有公允价值变动损失2.14亿元；2）2023年6月公司进行了新一期股权激励的授予，预计2023年将产生1.64亿元的股权激励费用摊销，因此23H2的费用端亦将有所增长。23Q3单季度公司实现归母净利润1.57亿元，同比下滑51.76%；实现扣非净利润2.15亿元，同比增长5.68%。 静待先进工艺新品放量。公司持续突破先进工艺，在刻蚀、薄膜设备有较多新品布局，有望在未来为公司贡献持续成长性： 1）CCP刻蚀：大马士革刻蚀研发顺利，超高深宽比刻蚀机已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力； 2）ICP刻蚀：在先进逻辑、先进DRAM和3D NAND中的工艺覆盖率达到50-70%，新应用包括DRAM中的高深款比的多晶硅掩膜、12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺（TSV）均已验证成功； 3）LPCVD：公司用于高端存储的钨填充LPCVD设备已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试； 4）ALD：用于高端存储和逻辑器件的氮化钛薄膜ALD设备研发顺利；5）EPI：用先进制程锗硅外延生长工艺的EPI设备研发顺利，正处于工艺调试和客户验证阶段。 投资建议：我们预计公司2023-2025年营收分别为62.93/81.20/104.82亿元，归母净利润分别为16.45/18.66/23.49亿元，对应现价PE分别为62/55/43倍，我们看好公司在半导体设备国产化进程中的领先优势，维持“推荐”评级。 风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。

     中微公司(688012) 事件 中微公司发布2023年半年报：公司上半年实现营收25.27亿元，同比增长28.13%；实现归母净利润10.03亿元，同比增长114.40%。经计算，公司2023年Q2单季度实现营收13.03亿元，环比增长6.57%；实现归母净利润7.28亿元，环比增长164.23%。 投资要点 刻蚀+MOCVD带动营收增长，盈利能力持续提高 公司2023年H1实现营收25.27亿元，同比增长28.13%。分产品来看，公司的刻蚀设备在国内外的市占率不断提高，实现收入17.22亿元，同比增长约32.53%；MOCVD设备在蓝绿光LED生产线上继续保持绝对领先的地位，实现收入2.99亿元，同比增长约24.11%。 在利润端，公司整体毛利率45.89%，同比增加0.53pct，其中刻蚀设备毛利率为46.16%，MOCVD设备毛利率为37.90%。毛利率提高叠加公司出售拓荆科技股票产生非经常性收益4.06亿元，使得公司归母净利润同比增长114.40%，为10.03亿元。 加大研发投入，扩充集成电路设备新品 公司加大研发，深耕集成电路关键设备领域，2023年上半年研发投入为4.60亿元，同比增长32.96%，占收入比例为18.22%。（1）刻蚀设备：针对28nm及以下逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺开发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已经进入客户验证阶段；超高深宽比刻蚀机已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力；ICP刻蚀设备在12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，在全面满足55nm、40nm和28nm逻辑芯片制造中ICP刻蚀工艺要求的基础上，拓展了在先进逻辑、先进DRAM、更多层的3DNAND存储芯片和特色器件等芯片制造中的应用范围。（2）沉积薄膜设备：公司首台CVD钨设备已如期完成多道工艺验证，更多应用正在验证当中；生产高端存储器件的关键设备新型号CVD钨和ALD钨设备，已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试；应用于先进存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备预期在2023年下半年发往客户端进行量产验证。 积极拓展泛半导体领域设备，丰富产品矩阵 公司积极拓展在泛半导体关键设备领域应用，探索其他新兴领域的机会。PrismoUniMax设备拓展了公司的MOCVD设备产品线，公司正与更多客户合作进行设备评估，扩大市场推广。公司也紧跟市场发展趋势，针对Micro-LED应用的专用MOCVD设备正在开发中。同时，公司积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PrismoPD5目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并且正在开发下一代用于氮化镓功率器件制造的新型MOCVD设备。公司还启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，目前实验室样机取得初步进展，将于2023年内交付样机至客户端开展生产验证。 盈利预测 预测公司2023-2025年收入分别为62.04、79.83、102.11亿元，EPS分别为2.87、3.02、3.82元，当前股价对应PE分别为51、49、39倍，我们看好公司在集成电路+泛半导体领域关键设备的业务布局，维持“买入”评级。 风险提示 下游客户扩产不及预期风险，上游供应链产能紧张风险，贸易摩擦风险，技术迭代风险等。

     中微公司(688012) 核心观点 事件：中微公司发布 2023 年半年报，2023 年上半年公司实现营收 25.27 亿元，同比增长 28.13%；归母净利润 10.03 亿元，同比增长 114.40%；扣非归母净利润 5.19 亿元，同比增长 17.75%。 刻蚀设备业务保持快速发展态势：中微公司的刻蚀设备，在国内外持续获得更多客户的认可，市占率不断提高。公司的 CCP 刻蚀设备在最先进的 5 纳米生产线及更先进的生产线上，实现了批量销售；公司的 ICP 刻蚀设备也不断扩大刻蚀工艺覆盖范围。2023H1 公司刻蚀设备业务收入 17.22 亿元，同比增长 32.53%，继续保持较快增长。 瞄准更前沿技术领域，新型刻蚀技术研发顺利：存储芯片制造使用的高深宽比刻蚀机长期被美国 LAM，日本 TEL 垄断。中微公司致力开发用于超高深宽比掩膜刻蚀,超高深宽比介质刻蚀的刻蚀机。两种设备都已开展现场验证，目前进展顺利，在未来有望满足国内存储器企业的扩产需求，并有力保障半导体产线的供应链安全。 深度布局薄膜沉积，发掘成长新动力：中微公司已实现多种 LPCVD 设备的研发交付以及 ALD 设备的重大突破。公司完全自主设计开发的双台机 CVD钨设备，能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用、DRAM 器件接触孔应用，以及 3D NAND 器件中的多个关键应用需求。同期公司较为成熟的 MOCVD产品实现营收 2.99 亿元，同比增长 24.11%，薄膜沉积设备有望为公司成长贡献新动力。 投资建议：综合考虑国内半导体产业发展状况，公司核心技术目前的研发进度，我们预计公司 2023-25 年营收为 61.39/78.91/101.77 亿元,归母净利润分别为 14.37/19.37/25.50 亿元，对应 PE 为 63.17/46.86/35.58 倍，维持“增持”评级。 风险提示：半导体市场下行周期叠加海外供应风险，国内晶圆厂设备采购放缓；高端产品研发进度不及预期;行业竞争加剧。

     中微公司(688012) 投资要点 中国刻蚀设备和MOCVD设备龙头，逐步拓展薄膜沉积、Epi设备。 公司是国内领先的半导体刻蚀设备及MOCVD设备制造商，逐步向薄膜沉积设备、Epi设备延展。随着国产替代推进及公司产品力提升，公司营收利润快速增长，2022年公司营业收入47.4亿元，同比增长53%，2017-2022年CAGR为37%；实现归母净利润11.7亿元，同比增长16%，2017-2022年CAGR为108%。产品端，公司刻蚀设备已广泛应用于65nm到5nm逻辑和64层、128层3DNAND量产线；MOCVD设备在全球氮化镓基LED设备占据龙头地位，二代MiniLED、MicroLED、功率器件设备积极研发推进；薄膜沉积设备方面，公司已推出用于钨沉积的CVD和ALD设备，并积极推进硅锗外延EPI设备研发。2022年公司新签订单63.2亿元，同比增加53%。产品线的不断延展，推进公司市场空间持续拓展。 自主可控驱动国产化率提升，刻蚀设备龙头引领先进制程突破。 刻蚀设备是集成电路三大核心设备之一，2022年全球市场220亿美元，占总设备市场的22%。我们预计2022-2025年中国大陆刻蚀设备市场空间平均约377亿元/年。存储器件3D化、逻辑芯片制程缩小，刻蚀设备需求量及要求大幅提升。公司在刻蚀设备领域深耕多年，CCP设备行业领先，ICP设备持续突破。CCP设备方面，公司市占率不断提升，2022年付运CCP刻蚀设备475腔，同比增长59%。公司CCP产品已覆盖28nm及以上的绝大部分和28nm以下的大部分刻蚀。逻辑端针对28nm及以下大马士革刻蚀已经入验证阶段，存储端高深宽比刻蚀已在客户端验证具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力。截至2023年二季度，公司累计生产付运2500个CCP刻蚀反应台。ICP设备方面，公司Primonanova系列产品自推出以来市场迅速扩大，截至2022年底出货量已达到297台，同时ICP设备产品种类不断丰富，分别推出VE、UE、LUX用于高深宽比结构刻蚀和高均匀性刻蚀。 立足优势蓝光LED领域，发力高端LED、功率器件市场。 MOCVD常用于制造LED、激光器、功率器件、射频器件等，其中LED为第一大应用。Mini/MicroLED产业化与功率器件市场的发展带动MOCVD设备需求提升。公司氮化镓基LED设备处于全球龙头地位。2021年针对MiniLED市场推出量产MOCVD设备，截至2022年底累计出货量已超120腔。在功率器件市场方面，公司已推出氮化镓功率器件MOCVD设备并获得先进客户重复订单，目前碳化硅、二代氮化硅功率器件的设备积极研发中。 内生外延协同发展，积极推进平台化布局。 公司持续稳步推进三维发展战略，在保持刻蚀设备和MOCVD设备竞争优势的同时，向半导体薄膜沉积、检测设备延伸，并积极扩展MEMS、功率器件、太阳能领域等泛半导体设备，探索环保及医疗健康设备等市场机会。内生方面，公司布局薄膜沉积设备领域，成功推出钨LPCVD、ALD设备并在客户端进行量产验证，积极推进ALD氮化钛设备和锗硅外延EPI设备研发。外延方面，公司积极进行投资与并购，投资睿励仪器（量测设备）和拓荆科技（薄膜沉积）等，通过外延式成长途径扩大产品和市场覆盖，平台化布局不断完善。 盈利预测与估值：我们预计2023-2025年公司营业收入分别为63.86、79.63、102.62亿元，同比增长34.7%、24.7%、28.9%；归母净利润分别为17.62、18.64、24.49亿元，同比增长50.7%、5.79%、31.3%；对应PE分别为46、43、33倍，给予“买入”评级。 风险提示 晶圆厂扩产不及预期、设备国产化进度不及预期、外部制裁加剧风险。

     中微公司(688012) 事件： 公司发布2023年半年报，2023H1营收25.3亿元，同比+28%；扣非后归母净利润5.2亿元，同比+17.8%；归母净利润10亿元，同比+114%。 2023Q2刻蚀设备收入继续高增，扣非净利率22.3%持续稳固： 2023年上半年，公司实现营收25.3亿元，其中刻蚀设备收入17.22亿元，同比+32.5%，毛利率46.16%；MOCVD收入2.99亿元，同比24.1%毛利率37.9%；其余备品备件及维保等收入5.1亿元，毛利率49.7%。单季度来看，2023Q2营收13亿元，同比+27.5%，其中刻蚀设备收入9.1亿元，同比+55.2%，毛利率45.1%；MOCVD收入1.3亿元，同比-33.7%，毛利率35.1%；其余备品备件及维保等收入2.6亿元，同比+10.4%。2023年二季度，公司整体营收稳步增长，刻蚀设备受益ICP应用扩展及领先客户批量订单，实现50%以上高增长。 利润端，2023H1公司实现扣非利润5.2亿元，同比+17.8%；归母净利润10亿元，同比+114%，主要系上半年减持拓荆科技股份产生税后净收益4.06亿元。2023Q2看，公司单季度扣非利润2.9亿元，同比+14.5%，扣非净利率22.3%，盈利能力持续稳固。 向平台化转型，看好新设备突破打开成长天花板: 公司目前已从深耕刻蚀逐渐向平台化企业转型，初步形成“刻蚀全面覆盖+薄膜沉积部分覆盖+量检测投资布局”的业务版图，展望后续，我们看好公司在新产品上持续突破，打开成长天花板： 1）刻蚀：持续推进针对逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术的攻关验证，进一步提升刻蚀工艺覆盖率。 2）沉积：钨沉积方面，首台CVD钨设备已顺利导入客户生产线，正对接更多逻辑/存储客户进行验证，新型号的CVD钨和ALD钨设备首台量产验证机已在客户端进行测试；TiN沉积方面，用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备预计2023H2发往客户端进行量产验证；EPI设备也进入工艺调试和客户验证阶段。 3）量检测：持股睿励仪器，投资布局前道量检测设备。 投资建议： 我们预计公司2023-2025年的收入分别为61.05/77.23/100.63亿元，同比增长28.8%/26.5%/30.3%；归母净利润为18.34/18.84/24.46亿元，同比增长56.8%/2.7%/29.8%，对应市盈率44.0/42.8/33.0倍。考虑公司在刻蚀设备领域的核心技术与客户优势，以及公司平台化战略下新设备突破与产业化顺利推进，我们给予2023年56xPE，对应目标价166.1亿元，维持“买入-A”。 风险提示：下游晶圆厂扩产不及预期，新产品导入放量不及预期，中美博弈影响供应链，市场竞争加剧。

     中微公司(688012) 事件概述： 公司发布2023年中报：1）23H1实现收入25.3亿元，yoy+28.1%；归母净利润10.0亿元，yoy+114.4%；扣非归母净利润5.2亿元，yoy+17.8%，毛利率45.9%，同比+0.53pcts。 2）23Q2收入13.0亿元，yoy+27.5%，qoq+6.5%；归母净利润7.3亿元，yoy+107.5%，qoq+164.7%；扣非归母净利润2.9亿元，yoy+14.5%，qoq+27.6%，毛利率45.9%，同比+0.63pcts，环比持平。扣非归母净利率22.3%，同比-2.5pcts，环比+3.7pcts。此前Q2业绩预告营收为13.0亿元，扣非归母2.7-3.1亿元，业绩符合预期。 刻蚀设备市占率进一步提高带动Q2业绩增长 23Q2公司刻蚀设备在国内外市占率不断提升，单季收入为9.1亿元，YoY+55%，营收比重为69.7%。公司MOCVD设备领先优势持续巩固，单季实现收入1.3亿元，YoY-34%，营收占比为10%。Q2归母净利润环比增幅较大系公司出售拓荆科技股票产生非经常性收益4.06亿元。 CCP和ICP工艺齐升级，先进逻辑&3DNAND空间进一步打开 1）CCP：已进入2D和3D存储产线。大马士革（28nm及以下逻辑）和高深宽比（存储）工艺攻关，取得良好进展。用于大马士革工艺的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE目前已经进入客户验证阶段；超高深比刻蚀机已在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力，有望在未来存储扩产中发挥至关重要作用。2）ICP：工艺覆盖超100个环节，在先进封装、2.5D封装、MCU、MEMS微机电系统等领域获得批量重复订单，在12寸3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上验证成功，并在欧洲客户12寸微机电系统芯片线上获认证机会，有望打开新市场。23H1，公司在单台机NanovSE的基础上，推出高深宽比结构刻蚀的NanovaVE（目前已在DRAM客户产线上验证成功）和高均匀性高深宽比刻蚀的NanovaLUX两种ICP设备，进一步扩展了ICP的验证工艺范围。 内生+外延打造高端装备平台企业 1）内生：公司开发的钨CVD具备优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件、64/128层3DNAND中多个关键应用，目前正在存储客户端验证；正在开发的ALD钨设备，已和关键客户开始对接验证，用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进，预计23H2发往客户端进行量产验证；SiC功率器件的外延设备研发进展顺利，样机即将在客户端验证；此外，公司正筹划更先进制程的薄膜设备。2）对外投资：2022年公司对睿励增资1.08亿元，并0.43亿元受让睿励老股东股权。睿励12寸量测已进入至28nm及以上制程产线，14nm验证中，并支持64层3DNAND生产、96层工艺验证中。 投资建议 公司刻蚀设备在国内外市占率稳步提升，多产品验证顺利。我们上调公司2023/24/25年归母净利预测为16/18/22亿元（此前23/24/25年归母净利为14/18/22亿元），对应PE为51/45/36倍，考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD设备领军企业之一，技术实力国内领先，维持“买入”评级。 风险提示 行业景气不及预期，研发进展不及预期，客户处产品验证不及预期。

     中微公司(688012) 投资要点 2023 年 8 月 24 日， 公司发布 2023 年半年度业绩报告。 2023 年 H1 公司营业收入为25.27 亿元， 同比上升 28.13%， 归母净利润为 10.03 亿元， 同比上升 114.40%； 毛利率为 45.89%， 净利率为 39.67%。 营收三大业务同比均有增长， 出售拓荆科技股份获得 4 亿税后净收益。 营收方面：（1） 刻蚀设备： 公司刻蚀设备在国内外持续获得更多客户认可， 市场占有率不断提高。 在国际最先进 5nm 芯片生产线及下一代更先进生产线上， 公司 CCP 刻蚀设备实现多次批量销售， 已有超过 200 台反应台在生产线合格运转。 公司 ICP 刻蚀设备不断地核准更多刻蚀应用， 迅速扩大市场并不断收到领先客户批量订单。2023H1 刻蚀设备收入为 17.22 亿元， 同比增长 32.53%， 毛利率达 46.16%。 （2）MOCVD 设备： MOCVD 设备在新一代 Mini-LED 产业化中， 在蓝绿光 LED 生产线上继续保持绝对领先地位， 2023H1， MOCVD 设备收入 2.99 亿元， 同比增长24.11%， 毛利率达到 37.90%。 （3） 备品备件及服务收入增长约 17.13%， 达 5.05亿元。 净利润方面： 2023H1， 公司实现归母净利润 10.03 亿元， 同比增长 114.40%，主要系本期收入和毛利增长下扣除非净利润较上年同期增加， 及公司于 2023 年上半年出售部分持有拓荆科技股票， 产生税后净收益 4.06 亿元（非经常性收益） 。 持续高水平研发投入+提前布局产业发展， 加深公司产品技术护城河。 2023 年上半年度， 公司研发支出共计 4.60 亿元， 政府补助抵减研发费用 0.30 亿元， 研究开发支出净额为 4.30 亿元。 截至 2023 年 6 月 30 日， 公司已申请 2,359 项专利， 其中发明专利 1,991 项； 已获授权专利 1,425 项， 其中发明专利 1,202 项。 （1） 刻蚀设备技术： 在逻辑芯片制造方面， 公司开发 12 英寸高端刻蚀设备持续获得国际国内知名客户订单， 已在从 65nm-5nm 各个技术结点量产。 目前， 公司着力改进刻蚀设备性能以满足 5nm 技术以下若干关键步骤加工要求,且已经获得重复订单并付运。 在存储芯片制造环节， 公司等离子体刻蚀设备已大量用于先进三维闪存和动态随机存储器件量产。 公司致力于提供超高深宽比掩膜（≥40:1） 和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案， 相应开发配备超低频偏压射频 ICP 刻蚀机用于超高深宽比掩膜刻蚀， 并开发配备超低频高功率偏压射频 CCP 刻蚀机用于超高深宽比介质刻蚀， 这两种设备都已经开展现场验证且进展顺利。 （2） MOCVD 设备技术：公司用于蓝光 LED 的 Prismo A7设备已在全球氮化镓基 LED MOCVD 市场中占据领先地位； 用于制造深紫外光 LED 的高温 MOCVD 设备 Prismo HiT3， 已在行业领先客户端用于深紫外 LED 生产验证并获得重复订单； 用于 Mini-LED 生产的 MOCVD 设备 Prismo UniMax已在领先客户端大规模量产； 用于硅基氮化镓功率器件用 MOCVD 设备 Prismo PD5已在客户生产线上验证通过并获得重复订单； 用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中， 即将开展样机在客户端的验证测试。 （3） 薄膜沉积设备技术： 公司已在短时间内实现多种 LPCVD 设备研发交付及 ALD 设备(原子层沉积)重大突破， 多款新产品研发项目在快速推进。 （4）布局光学检测设备： 芯片加工通常需要十大类设备， 其中刻蚀设备、 薄膜沉积、 光刻、 检测设备是产线中总价值量最高四类半导体设备， 中微已全面覆盖刻蚀设备及部分薄膜沉积设备， 并通过投资布局光学检测设备。 持续优化营销和服务网络+建立全球化采购体系， 提升公司外部竞争力。 销售端，设备制造商售后服务关系到设备能否在客户生产线上正常、 稳定地运行。 公司凭借在刻蚀设备及 MOCVD 设备领域技术和服务优势， 产品已成功进入海内外半导体及LED 制造企业， 形成较强客户资源优势。 随着半导体和 LED 制造环节向亚洲转移，相较于国际竞争对手， 公司在地域上更接近主流客户， 能提供快捷的技术支持和客户维护。 供应链端， 公司建立全球化采购体系， 与全球约 40 家供应商建立稳定合作关系。 同时， 注重零部件本土化， 在国内培育众多本土零部件供应企业， 有力地保障公司产品零部件供应和服务水平持续提升。 投资建议： 我们维持盈利预测， 预计公司 2023 年至 2025 年营业收入分别为61.72/80.07/99.03 亿元， 增速分别为 30.2%/29.7%/23.7%； 归母净利润分别为14.35/18.15/21.73 亿 元 ， 增 速 分 别 为 22.7%/26.5%/19.7% ； 对 应 PE 分 别56.2/44.5/37.1。 考虑到中微公司在国内刻蚀设备领域龙头地位及其四大产品性能与性价比等方面进入全球三强， 维持买入-A 建议。 风险提示： 下游客户扩产不及预期的风险； 国际贸易摩擦进一步冲击半导体器件供应链风险； 海外拓客进展不及预期； 产品研发不及预期。

     中微公司(688012) 事件： 公司发布2023年半年度业绩报告。上半年，公司实现营业收入25.27亿元，同比增长28.13%；归母净利润10.03亿元，同比增长114.40%；扣非净利润5.19亿元，同比增长17.75%；基本每股收益1.63元/股。 泛半导体设备收入维持快速增长 上半年，公司刻蚀设备、MOCVD设备在客户市场继续保持领先优势，营业收入分别为17.22亿元、2.99亿元，同比增长32.53%、24.11%；此外公司备品备件及服务收入达到5.05亿元，同比增长约17.13%，占营收比重约为19.98%。从盈利能力来看，上半年公司毛利率、净利率分别为45.89%、39.67%，净利率同比大幅增长主要原因系公司出售部分持有拓荆科技股权产生的投资收益4.77亿元。单季度来看，23Q2公司实现营业收入13.03亿元，同比增长27.46%，环比增长6.57%；归母净利润7.28亿元，同比增长107.53%，环比增长164.23%。 产品研发及客户拓展顺利 23H1公司研发投入4.60亿元，同比增长32.96%，研发投入占营业收入的比例为18.22%。公司通过自主研发或投资布局了刻蚀、薄膜和量测三类半导体设备。刻蚀设备方面，两类核心设备取得重大突破：用于大马士革工艺的CCP刻蚀机SD-RIE已经进入客户验证阶段，超高深宽比刻蚀机UD-RIE也已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力。MOCVD设备方面，Mini-LED领域产品持续服务客户，Micro-LED的专用MOCVD设备正在开发中，未来有望在Mini、Micro-LED时代继续保持领先优势。此外，公司首台CVD钨设备目前处于客户端验证中，开发的新型号CVD钨和ALD钨设备也已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机正在客户端进行测试。 盈利预测、估值与评级 考虑到公司盈利能力随着收入规模提升而改善，我们预计公司2023-2025年营业收入分别为61.17/80.98/104.02亿元，同比增速分别为29.06%/32.38%/28.45%，归母净利润分别为17.33/19.88/24.67亿元（23-24年原值为13.66/17.29亿元），同比增速分别为48.15%/14.72%/24.08%，EPS分别为2.80/3.22/3.99元/股，3年CAGR为28.23%。鉴于公司是国内刻蚀设备龙头，参照可比公司估值，我们给予公司2023年55倍PE，目标价154.18元，维持“增持”评级。 风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期；新品研发、验证进度不及预期等。

     中微公司(688012) 事件：公司发布2023年半年度报告。 刻蚀设备持续放量，2023H1收入端实现稳健增长 2023H1公司实现营业收入25.27亿元，同比+28%，其中Q2营收为13.03亿元，同比+27%，延续稳健增长趋势。1）刻蚀设备：2023H1实现收入17.22亿元，同比+33%。公司刻蚀设备在国内外市场占有率不断提高，CCP设备在国际最先进的5nm芯片生产线及下一代更先进的生产线刻蚀设备实现了多次批量销售，同时ICP设备迅速扩大市场并不断收到领先客户的批量订单。2）MOCVD：2023H1实现收入2.99亿元，同比+24%。公司MOCVD产品在新一代Mini-LED产线上继续保持绝对领先的地位。2022年公司新签订单约63.2亿元，同比+53%。截至2023H1末，公司合同负债和存货分别达到18.05和38.05亿元，分别较2022年底-18%和+12%，我们判断2023H1末公司在手订单依旧较为充足。随着订单陆续交付，公司2023H2收入有望延续高增长。 大额非经常性损益增厚利润空间，2023H1销售净利率同比+16pct 2023H1公司实现归母净利润10.03亿元，同比+114%，落于业绩预告中位区间（9.8~10.3亿元）；其中Q2归母净利润为7.28亿元，同比+108%。2023H1公司实现扣非归母净利润5.19亿元，同比+18%，落于业绩预告中位区间（5.0~5.4亿元）；其中Q2扣非归母净利润为2.91亿元，同比+14%。2023H1销售净利率和扣非销售净利率分别为39.67%和20.54%，分别同比+16.01pct和-1.81pct。1）毛利端：2023H1销售毛利率为45.89%，同比+0.53pct，略有增长，其中刻蚀设备、MOCVD设备毛利率分别达到46.16%和37.90%。2）费用端：2023H1期间费用率为21.81%，同比-2.03pct，其中销售、管理、财务和研发费用率分别同比-1.03、-4.24、+2.98和-3.83pct。3）2023H1非经常性损益为收益4.84亿元，同比增加约4.57亿元，明显增厚公司上半年净利润，变动主要系出售处置部分持有的拓荆科技股权产生税后净收益4.06亿元。 积极持续推进新品研发，先进工艺能力快速突破 公司在巩固现有产品竞争优势的同时，积极推进新产品研发，打开市场空间。①CCP设备：在逻辑领域，已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60:1深宽比结构的能力。②ICP设备：PrimonanovaICP刻蚀产品已在超过20家客户生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3DNAND、DRAM和逻辑芯片，并持续获得国际先进3DNAND客户批量订单。③MOCVD设备：积极布局第三代半导体设备，开发GaN功率器件量产应用的MOCVD设备，已在国内外领先客户产线进行验证并获得重复订单。④薄膜沉积设备：公司首台CVD钨设备2022底付运关键存储客户端验证评估，目前验证进展顺利；公司开发的应用于先进存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也取得重大进展，预期在2023H2发往客户端进行量产验证。此外，公司EPI设备也进入工艺调试和客户验证阶段。⑤量测设备：公司参股睿励科学，布局前道量/检测设备，持续提升持股比例。在产能方面，2021年公司连续启动南昌、临港产业基地、临港研发暨总部等建设项目，随着产能加速释放，为公司中长期增长奠定基础。 盈利预测与投资评级：考虑到公司存在大额投资净收益，我们调整2023-2025年归母净利润预测分别为18.85、19.94和25.54亿元（原值15.24、19.31和24.64亿元），当前市值对应动态PE分别为43、40、32倍。基于公司的高成长性，维持“买入”评级。 风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。